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北京利方达取得真空设备的高压电极法兰专利,解决真空设备电极法兰技术难题

0次浏览     发布时间:2025-04-03 14:32:00    

金融界2025年4月3日消息,国家知识产权局信息显示,北京利方达真空技术有限责任公司取得一项名为“一种真空设备的高压电极法兰”的专利,授权公告号CN 222705896 U,申请日期为2024年4月。

专利摘要显示,本实用新型涉及真空设备技术领域,且公开了一种真空设备的高压电极法兰,包括真空设备体和安装于真空设备体左侧的高压电极法兰本体,所述高压电极法兰本体的内部安装有电极杆本体,所述电极杆本体表面的左侧安装有绝缘环,所述绝缘环的内腔开设有连接孔,所述绝缘环的两侧均固定连接有密封胶圈。该真空设备的高压电极法兰,通过密封胶圈采用耐辐照三元乙丙材料,其特性是具有优异的耐老化、耐辐照特点,具有耐化学药品特性和耐油性能,通过电极杆本体采用无氧铜TU,其特性是具有纯度高,导电性能好的特点,通过绝缘环采用聚醚醚酮,其特性是具有耐高温、耐辐照、耐腐蚀、抗老化特点,同时高温高频高压电性能条件好。

天眼查资料显示,北京利方达真空技术有限责任公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币,实缴资本1600万人民币。通过天眼查大数据分析,北京利方达真空技术有限责任公司共对外投资了6家企业,参与招投标项目115次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息28条,此外企业还拥有行政许可4个。

本文源自金融界

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